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AJA 国际公司的 ATC-T 热蒸发系统有圆柱形（超高真空型）和箱式（高真空型）装置。这些系统性价比高且都采用的是高品质零件。它们沿用了许多 ATC&ATC ORION 溅射系统的特点和通用部件，并且还能装置 AJA 独有的 300Amp 水冷热蒸发源，克努森蒸发池，有机材料低温蒸发池，和 Luxel Radak 蒸发源。此外，这些系统都能配置 AJA 磁控溅射靶，预真空室，QCM石英晶体微天平，加热或冷却样品台，行星齿轮，各种泵组和自动控制系统。
标准蒸发速率/膜均匀性数据
标准热蒸发系统结构
ATC Orion 5-T
3 个 AJA 热蒸发源，带可加热至 850°C 基片加热器
ATC Orion 8-T
配置 3 个 Luxel Radak 炉，可加热至 850°C 基片加热器和涡轮分子泵预真空室
ATC 1800 T
可最多容纳 4 个 Radak 炉和 4cm K&R 有栅离子源，用于预清洗和离子辅助热沉积。蒸发源包含可控制共沉积的独立 QCM 隔离管道和一个可加热至 850°C的样品台。
ATC 2200-T UHV
多用途的超高真空系统能够容纳 6 个 Radak 沉积炉或滑动机制上的 5 槽直线型电子束蒸发源。另还有 6 个 QCM 测头，带隔离管道，以控制共沉积。有栅离子源和若干热蒸发源可供选择。
ATC 2030-T 箱式镀膜机
热箱式镀膜机带液氮基片冷却，4 个 AJA300A 热蒸发源和一个涡轮分子泵预真空室。
